Máy lọc plasma có thể loại bỏ các chất dễ bay hơi (VOC), các chất vô cơ, hydro sunfua, amoniac, mercaptan và các chất ô nhiễm chính khác, cũng như các loại mùi khác nhau và hiệu quả khử mùi có thể đạt trên ., Mùi, có thể được loại bỏ trong vòng 24 giờ và có khả năng tiêu diệt các loại vi sinh vật trong không khí, vi rút, v.v. và có tác dụng rõ rệt. Hiệu quả khử mùi vượt quá tiêu chuẩn phát thải của chất gây ô nhiễm mùi do chính phủ ban hành.

Nguồn cung cấp năng lượng plasma tần số cao điện áp cao xung và thiết bị phóng điện tấm răng được sử dụng để tạo ra các gốc tự do hoạt động năng lượng cao, năng lượng cao, ngay lập tức tiến hành các phản ứng oxi hóa khử trên các phân tử khí thải trong vòng một phần nghìn giây và loại bỏ hầu hết các chất gây ô nhiễm trong khí thải, phân hủy thành khí cacbonic và nước và các chất dễ xử lý.

Nguyên tắc thanh lọc của máy lọc plasma:

Plasma nhiệt độ thấp phân hủy các chất ô nhiễm bằng cách sử dụng hoạt động của các điện tử này, các gốc tự do và các hạt hoạt động và chất ô nhiễm khác trong khí thải để phân hủy các phân tử chất ô nhiễm trong một khoảng thời gian ngắn và trải qua nhiều phản ứng tiếp theo để đạt được mục đích phân hủy chất ô nhiễm. Phóng điện khí nói chung sẽ tạo ra plasma, và hiện tượng phóng điện này là để tách một hoặc nhiều electron ra khỏi các nguyên tắc hoặc phân tử khí thông qua một số cơ chế để tạo thành môi trường khí, được gọi là khí ion hóa. .Hiện tượng này gọi là phóng khí. Và loại công nghệ thiết bị thanh lọc này là một nguyên tắc xử lý khí thải công nghiệp.

Sự truyền năng lượng trong quá trình phản ứng của thiết bị đại khái như sau:

(1) Điện trường + êlectron → êlectron

(2) Electron + phân tử (hoặc nguyên tử) → (nguyên tử bị kích thích, nhóm bị kích thích, nhóm tự do) nhóm hoạt động

(3) Nhóm hoạt động + phân tử (nguyên tử) → sản phẩm + nhiệt